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Síntesis Top-Down: Molienda y Litografía
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Reducción de tamaño desde material bulk por vías mecánicas (molienda) u ópticas (litografía); el límite de difracción fija el tamaño mínimo alcanzable por vía óptica.

ID:('ky', 1687)

Molienda exponencial
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$d(t)=d_0e^{-kt}$

$k$
Constante de molienda
$1/s$
$d(t)$
Tamaño de partícula molida
$m$
$d_0$
Tamaño inicial
$m$
$t_{mill}$
Tiempo de molienda
$s$



ID:('gm', 14627)

Límite Rayleigh
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$CD=k_1\frac{\lambda}{NA}$

$NA$
Apertura numérica
$1$
$k_1$
Factor Rayleigh
$1$
$CD$
Dimensión crítica litográfica
$m$
$lambda$
Longitud de onda exposición
$m$



ID:('gm', 14628)

Profundidad de foco
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$DOF=k_2\frac{\lambda}{NA^2}$

$NA$
Apertura numérica
$1$
$k_2$
Factor DOF
$1$
$lambda$
Longitud de onda exposición
$m$
$DOF$
Profundidad de foco
$m$



ID:('gm', 14629)

gphysics.net - Dr. Willy H. Gerber
Palos Verdes, Costa de Corral, Región de los Rios, Chile